一、產品概述

光催化高能離子廢氣處理器，是一個組合體。即光觸媒技術和高能離子的結合。光催化高能離子廢氣處理器產品上經多年實踐設計而成的，它采用標準模塊設計，是一種干法處理有機廢氣的凈化設備。它與使用活性炭吸附材料再生處理原料，無需專人負責，不會產生二次污染，更換及維護保養方便。不需增大抽風設備，風阻小，安裝簡便。

根據環境要求可以分組制造，方便運輸及安裝。設備結構緊湊，投資低，操作方便。產品采用鍍鋅板，碳鋼板，或者不銹鋼1000-100000m3/h之間,是處理工業有機廢氣污染的設備之一。

二、產品用途

光催化高能離子廢氣處理器主要適用于：工業噴涂廢氣、印刷廢氣、化工廢氣、制革業廢氣、塑膠造粒廢氣、垃圾處理廠廢氣等各類工業有機廢氣的凈化處理。

三、工作原理

光催化離子法，離子去除惡臭氣體原理等離子體是由電子、離子、自由基和中性粒子組成的中性導電性流體，在空由氣體放電產生。等離子反應器中放電電極表面、器壁表面及涂層置放的催化劑都有可能對等離子體化學反應起催激發和催化劑活化聯合作用。低溫等離子體光催化系統里，去除污染物過程既有等離子體化學反應過程又有光催化間也可能存在協同作用。在等離子產生過程中，待處理的污染物受高能電子轟擊可以直接被分解成單質或轉化為無能電子的轟擊使污染物電離、離解、激發，產生了大量等離子體，等離子體中的離子、電子、激發態原子、分子及的反應性物種，使通常條件下難以進行或速度很慢的反應變得十分快速，它們再進一步與污染物分子、離子反應降解，尤其有利于難降解污染物的處理。另外，由于活性離子和自由基氣體放電時一些高能激發粒子向下躍遷能產子或電子的能量大于半導體禁帶寬度時，就會激發半導體內的電子從價帶躍遷至導帶，形成具有很強活性的電子空一系列氧化還原反應的進行。經過紫外線光催化后生空穴具有很強的獲得電子能力，可與催化劑表面吸附的 OH 二生成羥基自由基，從而進一步氧化污染物。由于等離子體放電光催化過程有大量等離臭子體、強活性電子沖擊、紫素的協同作用，因以更快速有效地分解空氣中惡臭物質和滅菌除臭。

光氧等離子一體機

四、產品特點

4.2、設備風阻低≤300Pa，無需增大抽風設備，投資低。

4.3、維護保養簡便，成本低，耗電小。

4.4、安全可靠，設備采用敞開式排放形式，不設封閉高壓，高溫區。

4.5、使用壽命長，安裝簡便，操作過程實現全自動化。

4.6、處理風量 3000m3/h-80000m3/h 以上。

（備注：voc 濃度超過 300ppm/m3 只需一級等離子凈化器，超過此濃度需要配兩級等離子凈化器 ）

五、使用方法：

光催化高能離子廢氣處理器操作十分簡便，新安裝的凈化器經本公司調試合格后，使用前客戶只要先檢查整個管道在漏風現象。然后清除等離子凈化器工作范圍內可能存在的易被吸入的如塑料袋等雜物。接著接通電源，電源指示即可啟動凈化器開關，則凈化器進入凈化工作狀態。

光氧催化等離子廢氣處理設備處理烤漆房廢氣

六、特別注意：

1、本設備不允許非專業人員自行拆裝、調試，以免損壞凈化器造成內部發生不安全事故；

2、若發生故障應及時關閉電源，并通知本公司技術部門維修；

3、嚴禁帶電操作！！！

4、必須定期做好維護保養工作。

5、如您是專業電工，請你用導線將此高壓對地短路，釋放殘留高壓。

七、產品的維修保養：

1、用戶應定期檢查、保養設備：

2、每隔 1-2 個月或視用戶現狀而定，定期清理粉塵一次，并拆下電極板，用工業堿水浸泡、清洗、晾干后重新安裝。

3、清洗電板時，避免使用重力，以免極間距發生變化，影響正常使用；

4、在進行維護保養時，嚴禁帶電操作；

5、用戶應***專人進行產品的維護保養，本公司將免費負責進行維護保養的指導和培訓；

6、本公司將接受用戶的委托，負責按合同規定為用戶進行產品的定期保養和維修服務。

八、售后保養：

1、光催化高能離子廢氣處理器出售后，本公司負責保修一年（注：人為損壞除外，保修期內不包括清洗極板）用板，可以向我司咨詢或派人到現場指導。

2、公司由專業負責人在保質期內對出售后的等離子有機廢氣凈化器進行定期巡檢。